一、光學材料生產超純水設備概述

用于光學材料生產的超純水設備包括四個過程：洗滌、漂洗、脫水和干燥。因為清洗過程分為溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的過程：溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥然后水基清洗；還有溶劑清洗，然后用乳化劑溶解溶劑，然后用水基清洗。在用流水沖洗后，溶解并去除鏡片表面的洗劑和污垢的過程稱為沖洗。

光學材料生產用超純水設備

手機面板、光學鏡頭、光學玻璃對超純水水質的清潔要求較高，帶有電離子和灰塵會對鏡頭造成不可逆的損壞，終端水質要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。

2.光學材料生產用超純水設備水質

手機面板、光學鏡頭、光學玻璃對超純水水質的清潔要求較高，帶有電離子和灰塵會對鏡頭造成不可逆的損壞，終端水質要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。

3.光學材料生產的超純水設備技術

光電光學玻璃行業的超純水設備主要用于在玻璃清洗過程中為超聲波提供超純水。在用于鍍膜玻璃鏡片清洗的超純水設備的設計中，采用了成熟、可靠和高度自動化的兩級RO+EDI+SMB脫鹽水處理工藝，以確保處理后的超純水的出水電阻率達到18.2 mΩ.cm。關鍵設備和材料均為主流可靠產品，采用PLC+觸摸屏控制，全套自動化程度高，系統穩定性高。

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